患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是
A、取下腭杆
B、腭杆组织面缓冲
C、腭杆组织面加自凝树脂重衬
D、不做任何处理
E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是
A、取下腭杆
B、腭杆组织面缓冲
C、腭杆组织面加自凝树脂重衬
D、不做任何处理
E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
参考E
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