金瓷基底冠进行氧化处理时，理想的氧化层应为多厚
A、0．05～0．1μm
B、0．1～0．2μm
C、0．2～2μm
D、2～2．5μm
E、2．5～3μm
金瓷基底冠进行氧化处理时，理想的氧化层应为多厚
A、0．05～0．1μm
B、0．1～0．2μm
C、0．2～2μm
D、2～2．5μm
E、2．5～3μm
参考C
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