上颌后堤区的形成方法,不正确的是

时间:2021-04-28 15:55:41 解答: 76 次

上颌后堤区的形成方法,不正确的是

A、上颌后堤区的宽度在中间区域可达4~5mm

B、上颌后堤区位于前后颤动线之间

C、用蜡刀沿后缘线刻入模型深3~5mm

D、一般在腭小凹与两侧翼上颌切迹连线后约2mm处为后堤区后缘

E、上颌后堤区越靠近腭中缝、两侧牙槽嵴越浅

正确答案:

参考C

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